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蒸發(fā)鍍膜設備

簡要描述：1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

  • 所在城市：無錫市
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新日期：2024-09-23
  • 訪  問  量：2213

詳細介紹

品牌LEBO/雷博
　　蒸發(fā)鍍膜設備的用途：
 
　　蒸發(fā)鍍膜設備是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類：Au,Cr,Ag,Al,Cu,In,有機物等。
 
　　蒸發(fā)鍍膜設備的組成：
 
　　有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。
 
　　1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
 
　　2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 
　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
 
　　4.主要用途：
 
　　1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
 
　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、C60、BCP......
 
　　5.應用領域：
 
　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 
　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
 
　　6.小型實驗設備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業(yè)的服務確保用戶省心省力
 
圖片2.png
 

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